Vådbehandlingsanlæg til wafer

Robotechnik Europe OPTIwet ST30

Anlæg til vådkemisk behandling af wafere op til 12", substrater op til X/Y 9"/9", fritstående kabinet, procesmoduler, PP-processkammer, 2 programmerbare mediearme, omdrejningstal 1-4000 o/min, accelerationsrampe 1-3000 o/min, spintid 1-999 sek., udsugning procesbowl 2x DN110, kammer 2x DN110, kabinet 1x DN110, styring 1x DN110 (hver 200 m³/h), CDA 8+/-2 bar, vakuum -0,8+/-0,2 bar, nitrogen 4,0+/-0,5 bar, 3 medieafløb, affaldskasse til 2 koncentrataffald, reagenskasse med trykbeholder, 4 Julabo termostatbade. Anlægget er adskilt ved nedtagningen. Besigtigelse efter aftale muligt.
Nedpfx Adexzii Us Ujwp

Annoncen blev oversat automatisk, og der kan forekomme nogle oversættelsesfejl.